2024LPCVD，pecvd

本文目录一览：

• 1、碳化硅舟托和石英舟托使用占比,未来发展趋势
• 2、薄膜沉积设备解析——PECVD/LPCVD/ALD设备的原理和应用
• 3、光伏lp是哪个工序

碳化硅舟托和石英舟托使用占比,未来发展趋势

1、传统的石英舟托使用寿命较短LPCVD，约为3-6个月LPCVD，碳化硅舟托可以替代石英舟托LPCVD，有更长的使用寿命，可达5年以上。使用碳化硅舟托可以显著降低使用成本，减少因维护和维修导致的停线时间，减少产能损失。舟托在光伏行业的制程设备中起到重要的作用。

2、虽然碳化硅舟托的价格相对较高，但在一般工况设备中，由于使用寿命接近，两者保持着并存竞争的局面。然而，随着碳化硅舟托生产成本的下降，其市场竞争力将增强，有可能对石英舟托产生更大压力。当前使用占比与未来趋势/ 目前，碳化硅舟托主要应用于TOPCon技术的LPCVD工序，而硼扩工序的验证工作已取得突破。

薄膜沉积设备解析——PECVD/LPCVD/ALD设备的原理和应用

1、化学气相沉积（CVD），一种通过热分解、光分解、还原和氧化等化学反应在基底上沉积薄膜的精密技术。它在硅氧烷（SiO2）和氮化硅（Si3N4）等领域大放异彩，然而受限于前驱体特性，金属通常采用物理气相沉积（PVD）作为补充手段。

2、以 CVD设备演进为例，相比传统的 APCVD、LPCVD设备，PECVD设备在相对较低的反应温度下形成高致密度、高性能薄膜，不破 坏已有薄膜和已形成的底层电路，实现更快的薄膜沉积速度，已成为芯片制造薄膜沉积工艺中运 用最广泛的设备种类，未来 HDPCVD、FCVD 应用有望增加。

3、但LPCVD沉积法存在使用的高温（600度以上）工艺可能对衬底硅片有伤害，如激活内部杂质从而降低硅片质量，以及在硅片的两面都会沉积硅基薄膜，以致在不需要硅基薄膜的一侧需要增加一个工艺来去除硅基薄膜的问题。板式PECVD除了设备造价高、不易维护外，硅基薄膜厚度的面积均匀性的实现的难度也非常大。

4、上述方法实际消耗的硅材料更多。为了节省材料，目前制备多晶硅薄膜电池多采用化学气相沉积法，包括低压化学气相沉积（LPCVD）和等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺。此外，液相外延法（LPPE）和溅射沉积法也可用来制备多晶硅薄膜电池。

5、TopCon生产流程分为9步，分别为硅片制绒清洗、扩散制结、湿法刻蚀、隧道结制备、离子注入、退火和湿化学清洗、ALD沉积氧化铝、PECVD 沉积氮化硅膜、丝网印刷等工序。

光伏lp是哪个工序

1、氧化层沉积和多晶硅沉积。氧化层沉积：LPCVD在一定温度下，以水蒸气为反应气体，通过化学反应在硅片表面沉积一层二氧化硅薄膜。多晶硅沉积：LPCVD在一定温度下，以硅烷为反应气体，通过化学反应在硅片表面沉积一层多晶硅薄膜。

2、晶澳科技是光伏行业领军企业之一，公司业务涵盖硅片、电池、组件及光伏电站等。晶澳科技从2010年开始布局全产业链一体化，在成本控制、技术水准及工艺管控等方面优势明显。随着产能释放、硅料价格的下降，正给光伏产业链带来新的变化。产业链利润向下游传导、刺激装机需求成为共识。

3、太阳光照在半导体p-n结上，形成新的空穴-电子对，在p-n结电场的作用下，空穴由n区流向p区，电子由p区流向n区，接通电路后就形成电流。这就是光电效应太阳能电池的工作原理。 光伏效应指光照使不均匀半导体或半导体与金属结合的不同部位之间产生电位差的现象。

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